紫外線氯胺（UV/NH?Cl）技術通過光解一氯胺產生氯自由基和羥基自由基；而紫外線/過硫酸鹽技術則通過光解過硫酸鹽（如PDS）產生硫酸根自由基（SO?·?）。硫酸根自由基的氧化電位為2.5-3.1V，高于羥基自由基，對于羥基自由基反應速率較低的含氮有機物，具有更好的降解效果。

一、紫外線氯胺高級氧化：新興污染物的有效解決方案

UV/NH?Cl光氧化AOP工藝利用紫外光（通常為254 nm）照射水中的一氯胺（NH?Cl），使其發生均裂光解，產生活性自由基中間體，從而氧化難降解的新興污染物。

氯胺在水中的主要形態取決于pH值。在飲用水消毒的常規pH范圍（6.5-8.5）內，一氯胺是主導形態。一氯胺在紫外光照射下，其氮氯鍵（N-Cl）發生均裂，生成氨基自由基（·NH?）和氯自由基（Cl·）。生成的氯自由基會迅速與水反應，生成羥基自由基（HO·）和氯離子（Cl?），或與氯離子結合生成二氯自由基陰離子（Cl?·?）。

因此，紫外線氯胺體系中的主要活性氧化物種包括羥基自由基、氯自由基和二氯自由基陰離子。

二、紫外線過硫酸鹽高級氧化

紫外線過硫酸鹽（UV/Persulfate） AOP利用紫外光（通常為254 nm）照射過硫酸鹽，使其發生均裂光解，產生高活性的硫酸根自由基。

過二硫酸鹽（PDS）和過一硫酸鹽（PMS）分子中都含有一個過氧鍵（-O-O-），該鍵在紫外光照射下會發生均裂，生成硫酸根自由基（SO?·?）。硫酸根自由基的標準還原電位在2.5-3.1 V之間，氧化能力很強。

生成的硫酸根自由基可以通過直接電子轉移、加成和氫提取等多種機制，與目標污染物發生快速反應。該工藝的能量效率在眾多高級氧化工藝中通常處于較低水平。

安力斯環境已在多個項目中驗證了UV/Persulfate工藝對難降解有機污染物的處理效果。

作為提供完整解決方案的供應商，安力斯環境對整個工藝鏈有深入理解。公司在氧化及高級氧化領域擁有綜合專業知識，能夠根據水質特點和處理目標，選擇最合適的技術路線。

公司在氯基和過硫酸鹽高級氧化工藝方面，已形成從實驗室小試、中試驗證到工程實施的全流程技術能力。公司自2005年起已安裝500多個污水處理廠，擁有工業園區污水廠的EPC和運營經驗，能夠為客戶提供從技術評估、方案設計到工程實施與運行維護的一站式服務。